紫金财经4月10日消息 无论是手机还是电脑，以及其他科技类产品，最主要的还是在于芯片的研究，芯片越高级，性价比也就越高。

芯片是一切科技产品的核心，那制造芯片的光刻机则是重中之重了，人们为了研究出光刻机也是耗费许多人力、物力和财力，最主要的是经过了一大段时间的沉淀。

众所周知，光刻机这两年不断刷屏，原因在于光刻机是芯片制造过程中必不可少的一种设备，而国内生产技术落后，目前只能量产用于90nm芯片制造的光刻机。而像尖端的半导体行业光刻系统供应商 ASML公司目前的技术是5nm，台积电今年芯片制造就要进入5nm。

据外媒报道，ASML 去年交付了 26 台极紫外光刻机(EUV)，其中约一半面向大客户台积电。ASML 还透露，去年交付的 26 台极紫外光刻机中，有 9 台是最新型号，即 NXE:3400C。

根据外媒报道，台积电 2019 年正式启动 7nm 产品的量产，这只能通过波长极短的 EUV 进行操作。资料显示，EUV 光源波长比目前深紫外线微影的光源波长短少约 15 倍，因此能达到持续将线宽尺寸缩小的目的。在晶圆代工领域，台积电掌握了全球约一半份额。

三星电子、等也采购了 ASML 的极紫外光刻机设备。ASML 服务的客户为全球主要的半导体制造商，打造在电力电子、通信和信息技术产品中广泛应用的芯片。

反观我国的芯片制造，目前还在90nm的水平。当然，说起来90nm的芯片，横向对比7nm、5nm来讲，是落后太多了，但如果因此而否定国产90nm的光刻机，那就错了。

根据近日中芯国际发布的2019年的财报，这家公司2019年营收31.16亿美元（约合人民币221.12亿元），其中90纳米及以下先进制程的晶圆收入贡献比例为50.7%，营收为15.8亿美元（约合人民币112.12亿元）。而65/55纳米技术为27.3%，14nm的贡献率约为1%。

这就说明，至少在目前阶段，90nm对于中芯国际而言，还是个营收的大头，芯片制造没有像大家想象中的那样，全是7nm、5nm等芯片。

从现在的情况来看，也就是手机芯片在不断的往更先进的制造前进，而像PC芯片，intel还在14nm，其它的一些通用设备，使用90nm芯片的非常普遍。

总体看，先进的光刻机还处于一个被垄断的地位，有需求但难研发。想要发展属于自己的芯片，首先需要解决光刻机问题。而光刻机的研发需要很多精密的部件组成，这些部件的研究不亚于芯片本身。

目前，国内光刻机厂商主要为上海微电装备、中电科 48 所、中电科 45 研究所等。上海微电装备的发展在国内最为领先，是我国唯一一家生产高端前道光刻机整机的公司，其目前可生产加工 90nm 工艺制程的光刻机，同时承担国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02 专项）的 65nm 光刻机研制，代表国产光刻机最高水平。但与ASML 7nm 、5nm工艺制程 EUV 光刻机相比，仍存在非常大的差距。

光刻机越先进越好，这个是必然的，毕竟目前在高端芯片制造上，我们完全依赖于进口光刻机。国产光刻机迅速赶上国外同类产品的可能性不大，路是一步步走的，先有了90nm，才会有14nm，7nm，5nm。大家的心情可以理解，但难度大的现实我们应该有清醒认知。

而中国企业实现光刻机和芯片的突破，还需要更加艰苦的努力。（紫金财经综合）